当然曹焱也并没有多放很多技术进去，大概就是到了2008到2010年左右的光刻机一些关键性的专利技术进去。
只是为了是让自己能顶住米国的制裁，同时也能为自己争取到一定的时间，抱着其他芯片公司大家一起死心思。
太过于逆天的技术，他并没有拷贝出来，自己也没必要为他们点亮科技树。
而自己偷偷的发展其它学科的芯片，比如碳基芯片，量子芯片。
如今的光刻机技术还是湾积电的林本坚博士提出的浸入式光刻技术。
早先全球的半导体工业都为超越193nm光刻绞尽脑汁，但却先后失败。只有林博士提出的这个相对简单的办法最后成功。
把间距提高到了157nm，当然后来又到了126nm，不过在极深紫外线技术也就是euv技术出现之前，那也差不多也是光刻机的极限了。
虽说自己担忧，可看见曹焱笑的轻松，宁凝雪也放下心来，只要专利申请在手，国家看见可行度，还怕不会支持吗？
“行，我会尽快帮让人帮你申请好专利的。”宁凝雪小心的接过曹焱递过来的u盘：“我们去看看无人机的样机与流水线，你看看还有什么地方需要改进的。”
……
在宁凝雪的带领下。
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